飛秒雷射源

飛秒(一飛秒等於十的負十五次方秒)雷射(femtosecond lasers),又可稱為超快雷射(ultrafast lasers),由於脈衝能量可高度集中在非常短的時間裡,在聚焦後可達到非常高(百萬瓦到兆瓦)的峰值功率,同時維持相對低(數瓦到數十瓦)的平均功率,可以想像是一種非常低工作週期(duty)的脈衝雷射光,它的低平均功率與極短脈衝都讓它在與材料交互作用時的熱效應較低,也因此可以被廣泛應用在工業材料微細加工、顯微鏡激發光源、太赫茲產生等等。

飛秒雷射主要的應用

01

工業材料微細加工

常見的應用如矽晶圓劃線及切割、玻璃切割、金屬成形加工、陶瓷鑽孔等等,在半導體封裝、電子產業、半導體測試等產業均有實際應用。

飛秒雷射極短脈衝以及瞬間極高功率可直接將材料游離,不經過固態、液態再轉氣態的加熱過程,而是在很短時間內被轉為電漿雲而達到材料移除效果。由於熱的傳遞是電子的能量需傳遞到材料晶格上,通常需要1,000飛秒(即1皮秒以上)的時間,在飛秒脈衝結束時,此種熱傳遞過程還來不及發生,材料即被電漿化並且帶走大部分能量,所以此種加工法也被稱為「冷加工」。

02

顯微鏡激發光源

飛秒雷射於生醫顯微鏡中可作為激發光源;且將雷射光焦點在空間掃描後,可以產生解析度極高、背景雜訊極小的高品質影像。

由於其低平均功率、高瞬間功率的特點,非常適合用在激發待測生物樣本中特定的螢光蛋白,產生非線性吸收(雙光子或是多光子吸收),由於僅雷射光焦點附近強度夠高,能產生激發後發出的螢光,因此將雷射光焦點在空間掃描後,可以產生解析度極高、背景雜訊極小的高品質影像。

03

太赫茲產生

常被用於作材料分析,尤其是光學不透明材料,在工業上常用應用包括鍍膜分析、半導體元件及材料分析等。

飛秒雷射可被用於產生太赫茲(terahertz),也就是10的12次方赫茲左右頻率的電磁波,以飛秒雷射產生的太赫茲相較於電子方式產生的有較寬的頻寬,適用作太赫茲光譜上的檢測應用。

產品類別及規格介紹

高重複率飛秒雷射源

高能量飛秒雷射源

客製規格之服務流程

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常見問題

我們提供由安裝驗收日起算一年的保固,並提供購買時可選配的延長保固最長至三年的方案。保固期間內所有檢測、維修、運送等相關費用均由我們負擔。

我們飛秒雷射種子源是採光纖架構,無自由空間(free space)元件,且內部並無需更換或定期移動的半導體飽合吸收鏡(saturable absorber mirror)等元件,可提供極長時間、可靠的鎖模穩定度。雷射售出後的維護與檢修在台灣可提供及時與可靠的服務。

標準規格產品一般交期為下訂後8-12週內交貨。

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